Lacca fotosensibile destinata alla realizzazione di cilindri tessili microforati
- Eccellente adesione fisica sul nichel
- Eccellente definizione contorni
- Ottima resistenza chimico-fisica
- Per cilindri con elevato numero di mesh
- Ottima reattività con i sistemi CTS "Lex"
- Unità laser a bassa potenza (480- 530 nm)
Campi di applicazione
Indicata con inchiostri per stampa tessile rotativa, da utilizzare esclusivamente con i sistemi "Lex", unità laser ottica a bassa potenza